掩膜版生產(chǎn)工藝流程主要包括CAM圖檔處理、光阻涂布、激光光刻、顯影、蝕刻、脫膜、清洗、宏觀檢查、自動(dòng)光學(xué)檢查、精度測(cè)量、缺陷處理、貼光學(xué)膜等環(huán)節(jié)。

掩膜版是微電子制造過(guò)程中的圖形轉(zhuǎn)移母版